· LPCVD（低壓化學(xué)氣相沉積）

SiNx，片內(nèi)均勻性：<±5%

· PECVD（等離子增強(qiáng) 化學(xué)氣相沉積）

SiO?，SiNx，a-Si(B,P,Ge摻雜)

· ICPCVD（感應(yīng)耦合 化學(xué)氣相沉積）

SiO?，SiNx，SiC(低溫、低應(yīng)力鍍膜)

· PEALD（原子層沉積）

Al2O3、HfO2、AlN

· 光學(xué)鍍膜

SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3

· PVD（濺射沉積）

Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb

· 電子束蒸發(fā)

Ti，Al，Ni，Ag，Cu，Cr，Sn，Pt，AuGe

· 熱蒸發(fā)

Sn，AuSn，Ag，Au，In，Al，Cr，Cu，Ti